随着半导体工业的不断发展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有极其严格的水质要求。目前，我国常用的超纯水标准有国家标准《电子级水》(GB/T.1-)和美标。

在半导体生产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，从而影响电子和空穴的浓度。因此，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。如果硼离子含量能够达到较低的指标，则必然会提高半导体的性能。

高良品率制胜关键——超纯水纯净工艺

在芯片生产中硅晶片在进入每道工序之前必须保证表面洁净,任何的沾污现象都将影响芯片上器件的正常功能。当制程工艺节点为35nm时，需要保证硅晶圆表面颗粒及COP密度小于0.1个/c㎡。当节点进展至更精细等级后,如7nm、5nm甚至更小制程节点的芯片，晶圆工艺流程拉长且愈加复杂，须解决晶圆平坦表面出现的随机缺陷，以适应更复杂、更精细的3D芯片架构。这不仅需要依赖惊人的用水量进行反复冲洗，还需要提升超纯水的纯度，以确保冲洗质量及效率。

一、产品介绍：Tulsimer?CH-99硼选择吸附树脂Tulsimer?CH-99是一款去除水溶液中硼及其盐的选择性离子交换树脂。在一些化工工业以及农业用水中，微量的硼或者都可能是严重的问题。此种树脂可以在较大的PH范围内甚至有其他离子存在的溶液中有效的去除硼以及硼盐，并且具有更多的数量。

随着硼?业的发展及?们对?中硼污染问题的重视，?中硼的去除越来越引起?们的?泛

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